與機械拋光不同，離子研磨係統處理樣品而不會變形或施加機械應力。因此，用於預處理樣品的離子銑削係統的應用範圍不斷擴大，不僅包括掃描電子顯微鏡（SEM），還包括原子力顯微鏡（SPM / AFM）等。離子銑削係統應用範圍廣泛，日立高新收集了用戶在各種領域提供的關鍵性建議和改進，並將它們納入到 新的設計平台。
　　ArBlade 5000還具有PLUS II離子槍技術設計。這是一種新的氬離子槍，可以實

日立ArBlade 5000離子研磨係統能夠實現高產量，並製備廣域橫截麵樣品。

　　離子研磨係統使用通過在表麵上照射氬離子束引起的濺射效應來拋光樣品的表麵。樣品預處理係統可以用於電子和材料等各個領域的研發和質量控製等。

新推出的ArBlade 5000具有混合研磨功能，能夠進行橫截麵研磨，是日立離子研磨係統的 家標誌。此功能使樣品能夠根據所需的目的和應用進行預處理。

　　與機械拋光不同，離子研磨係統處理樣品而不會變形或施加機械應力。因此，用於預處理樣品的離子銑削係統的應用範圍不斷擴大，不僅包括掃描電子顯微鏡（SEM），還包括原子力顯微鏡（SPM / AFM）等。離子銑削係統應用範圍廣泛，日立高新收集了用戶在各種領域提供的關鍵性建議和改進，並將它們納入到 新的設計平台。

　　ArBlade 5000還具有PLUS II離子槍技術設計。這是一種新的氬離子槍，可以實現了1mm/hr以上的截麵銑削速度（日立高新的IM4000Plus型號的兩倍）。新係統使用戶能夠在比以前更短的時間內準備橫截麵，包括陶瓷和金屬等硬質材料，這往往需要較長的加工時間。

　　此外，日立高新開發了的寬區域橫截麵研磨，以實現橫截麵研磨， 大研磨寬度為8mm，從而可以製備比以往更大的截麵樣品。通過與下一代氬離子槍的協同效應，新的ArBlade 5000可以與市場上可用的任何其他離子係統一起製備廣域橫截麵樣品。

主要特點

　　1.能夠進行橫截麵和平麵的混合研磨係統。

　　2.通過PLUS II離子槍技術設計高速氬離子槍實現1mm/hr或更高的橫截麵研磨速度。

　　3.通過使用廣域橫截麵研磨，實現 大寬度達8mm的廣域加工。

　　4.基於采用LCD觸摸麵板的控製係統，增強了可操作性。